1、引言
增強現(xiàn)實技術(shù)即AR技術(shù)是將虛擬信息與現(xiàn)實世界相互融合,屬于下一個信息技術(shù)的引爆點,據(jù)權(quán)威預(yù)測增強現(xiàn)實眼鏡將會取代手機成為下一代的協(xié)作計算平臺。以增強現(xiàn)實眼鏡為代表的增強現(xiàn)實技術(shù)目前在各個行業(yè)開始興起,尤其在安防和工業(yè)領(lǐng)域,增強現(xiàn)實技術(shù)體現(xiàn)了無與倫比的優(yōu)勢,大大改進了信息交互方式。目前比較成熟的增強現(xiàn)實技術(shù)主要分為棱鏡方案、birdbath方案、自由曲面方案、離軸全息透鏡方案和波導(dǎo)(Lightguide)方案,前三種方案體積較大,限制了其在智能穿戴方面,即增強現(xiàn)實眼鏡方面的應(yīng)用。全息透鏡方案使用全息片獨一無二的光學(xué)特性,具有大FOV和小體積的優(yōu)勢,但是受限于眼動范圍比較小。波導(dǎo)是目前最佳的增強現(xiàn)實眼鏡方案。波導(dǎo)方案又分為幾何波導(dǎo)方案、浮雕光柵波導(dǎo)方案和體全息波導(dǎo)方案。幾何波導(dǎo)方案中一般包括鋸齒結(jié)構(gòu)波導(dǎo)和偏振薄膜陣列反射鏡波導(dǎo)(簡稱偏振陣列波導(dǎo))。其中主流的偏振陣列波導(dǎo)是使用陣列的部分透射部分反射薄膜鏡來達到虛擬信息的顯示的目的,偏振陣列波導(dǎo)方案具有輕薄、眼動范圍大且色彩均勻的優(yōu)勢。浮雕光柵波導(dǎo)方案可以用納米壓印工藝進行大批量生產(chǎn),引起了AR光學(xué)模組生產(chǎn)產(chǎn)商的極大興趣,它具有大視場和大眼動范圍的優(yōu)勢,但是也會帶來視場均勻性和色彩均勻性的挑戰(zhàn),同時相關(guān)的微納加工工藝也是巨大的挑戰(zhàn)。體全息波導(dǎo)方案在色彩均勻性(無彩虹效應(yīng))和實現(xiàn)單片全彩波導(dǎo)上均有優(yōu)勢,但是目前在大規(guī)模量產(chǎn)和大視場上受到了限制。
圖 1 為波導(dǎo)方案的基本顯示原理,耦入?yún)^(qū)域用于將微投影光機的光束耦入到波導(dǎo)片中,使得光束滿足在波導(dǎo)片中全反射傳播的條件,耦出區(qū)域用于將全反射傳播的光束耦出波導(dǎo)片并傳到人眼。耦入?yún)^(qū)域可以是反射鏡、棱鏡、浮雕光柵和體全息光柵等。耦出區(qū)域可以是陣列半透半反射鏡、浮雕光柵和體全息光柵等。本文將對波導(dǎo)方案和衍射波導(dǎo)加工工藝做進一步的闡述,并介紹瓏璟光電在該領(lǐng)域相關(guān)的研發(fā)情況。
圖1:波導(dǎo)方案原理圖
2、幾何波導(dǎo)方案
2.1 鋸齒波導(dǎo)
其基本原理為在眼睛前方的位置,利用鋸齒狀的有一定反射率的反射面,將光反射耦出到人眼。
圖2:第一類鋸齒形波導(dǎo)片光學(xué)模組圖
圖3:第二類鋸齒形波導(dǎo)片光學(xué)模組圖
圖4:局部鋸齒形結(jié)構(gòu)圖
圖 2 為一種具有鋸齒斜面的結(jié)構(gòu)[1],斜齒結(jié)構(gòu)如圖 4 所示。波導(dǎo)片內(nèi)傳輸?shù)奶摂M圖像,從鋸齒結(jié)構(gòu)反射進入人眼,外部環(huán)境光,經(jīng)過互補的兩個鋸齒結(jié)構(gòu),直接進入人眼而不受到影響。圖3結(jié)構(gòu)利用間隔的鋸齒結(jié)構(gòu)[2],完成虛擬圖像與外部環(huán)境圖像合并。但是這種結(jié)構(gòu)齒數(shù)越多雜散光越多,也影響對比度,降低成像質(zhì)量。而且光線只在鋸齒結(jié)構(gòu)上經(jīng)過一次反射就耦出到人眼,超過1次將為成為雜散光,如果要改善這種效果,就得增加波導(dǎo)片的厚度。同時多個鋸齒結(jié)構(gòu)上鍍膜無疑增加了工藝難度。圖 3 結(jié)構(gòu)存在的問題就是能量利用率比較低,因為有一部分沒有鋸齒結(jié)構(gòu)不能全部反射能量,即使通過一定的角度偏轉(zhuǎn)來遮擋不反射的部分,不能兼顧全部視場角,在大視場角時能量損失尤為明顯。
2.2 偏振陣列波導(dǎo)
Lumus公司產(chǎn)品如圖 5(a) 所示[3],這種方法與上述鋸齒的波導(dǎo)相比有明顯的優(yōu)勢,他的反射結(jié)構(gòu)布滿整個波導(dǎo)片。波導(dǎo)鏡片中間的位置有角度選擇的部分透部分反薄膜面,陣列排布,因此,我們通常稱這種為偏振陣列波導(dǎo)技術(shù)。由于有多個部分透射部分反射面,每一個面會將部分光線反射耦出波導(dǎo)進入人眼,剩下的光線透射過去繼續(xù)在波導(dǎo)中前進。然后這部分前進的光又遇到另一個鏡面,重復(fù)上述的“反射-透射”過程,直到鏡面陣列里的最后一個鏡面將剩下的全部光反射出波導(dǎo)進入人眼。如圖 5(b)這樣多次的反射,能將出射的光“調(diào)整”得比較均勻。
(a)
(b)
圖5:
(a)Lumus偏振陣列波導(dǎo)產(chǎn)品圖;
(b)瓏璟光電偏振陣列波導(dǎo)光路圖。
這項技術(shù)的擴瞳技術(shù),設(shè)計較為復(fù)雜。設(shè)計時要充分考慮雜散光,人眼兼容性,各項性能指標。除此之外,均勻性也是最終用戶體驗的直觀指標,如何控制多個膜層的反射和透過率,如何整機優(yōu)化,如何控制鍍膜工藝,才能保證整個眼動范圍內(nèi)的均勻性,也是研究的重點。為此瓏璟光電自研偏振陣列波導(dǎo)設(shè)計軟件工具箱,使波導(dǎo)片的設(shè)計更加智能化(一鍵設(shè)計)。工藝上自主研發(fā)光學(xué)加工工藝,使性能和成本均占有優(yōu)勢。圖 6(a)所示為瓏璟光電偏振陣列波導(dǎo)3D仿真光路圖。圖 6(b)所示為我司的一款偏振陣列波導(dǎo)產(chǎn)品圖。
(a)
(b)
(c)
圖6:
(a)瓏璟光電偏振陣列波導(dǎo)3D光路圖;
(b)瓏璟光電偏振陣列波導(dǎo)產(chǎn)品;
(c)瓏璟光電偏振陣列波導(dǎo)產(chǎn)品實際效果圖。
[1]. Wenjun Zhang, Zhifeng Wang, and Jian Xu, "Research on a surface-relief optical waveguide augmented reality display device," Appl. Opt. 57, 3720-3729 (2018)
[2]. Miaomiao Xu, Hong Hua, "Ultrathin optical combiner with microstructure mirrors in augmented reality," Proc. SPIE 10676, Digital Optics for Immersive Displays, 1067614 (21 May 2018); https://doi.org/10.1117/12.231562
[3]. https://lumusvision.com/products/oe33/
3、浮雕光柵波導(dǎo)方案
浮雕光柵波導(dǎo)方案即為使用浮雕光柵(SRG)代替?zhèn)鹘y(tǒng)的折反射光學(xué)器件(ROE)作為波導(dǎo)方案中耦入、耦出和出瞳擴展器件。常用的浮雕光柵主要有一維光柵,其包括傾斜光柵、梯形光柵、閃耀光柵和矩形光柵結(jié)構(gòu)等,圖 7(a)所示為傾斜光柵得掃描電鏡(SEM)圖。二維光柵,如波導(dǎo)中常用的六邊形分布的圓柱光柵結(jié)構(gòu),圖 7(b)所示為二維圓柱光柵結(jié)構(gòu)的SEM圖。以上光柵結(jié)構(gòu)的特征尺寸均為納米級。所以目前浮雕光柵波導(dǎo)的路線主要有:基于一維光柵的浮雕光柵波導(dǎo)方案,原理圖如圖 8(a)所示,分為耦入、轉(zhuǎn)折和耦出區(qū)域,三個區(qū)域均采用一維光柵,并在轉(zhuǎn)折區(qū)域和耦出區(qū)域分別進行一個方向的擴展,代表產(chǎn)品為HoloLens?;诙S光柵的浮雕光柵波導(dǎo)方案,原理圖如圖 8(b)所示,分為耦入和耦出區(qū)域,耦入?yún)^(qū)域經(jīng)典結(jié)構(gòu)為一維光柵,耦出區(qū)域結(jié)構(gòu)為二維光柵,使用二維光柵結(jié)構(gòu)的多個級次,同時保證光束的耦出和多個方向的擴展,代表公司為WaveOptics。圖 8(c)是二維光柵波導(dǎo)得K域圖,內(nèi)圈代表波導(dǎo)片中得全反射條件,外圈代表波導(dǎo)片材料所可以達到得最大K值,耦入光柵將光束的K值平移到環(huán)形區(qū)域,即使得光束滿足在波導(dǎo)片內(nèi)全反射傳播得條件,耦出光柵將部分光束的K值從環(huán)形區(qū)域平移到內(nèi)圈區(qū)域,即使得光束耦出到人眼。
圖 9(a)所示為瓏璟光電設(shè)計的第一代浮雕光柵波導(dǎo),采用的二維光柵波導(dǎo)方案,瓏璟光電具有自主知識產(chǎn)權(quán)的浮雕光柵波導(dǎo)也正在開發(fā)完善中。如圖 9(b)和圖 9(c)所示分別為我司做的基于兩種浮雕光柵波導(dǎo)原理的場追跡仿真結(jié)果。
圖10(a)為微軟最新的Hololens2的效果圖[4],圖10(b)為WaveOpics衍射波導(dǎo)得效果圖[5],圖10(c)為Dispelix衍射波導(dǎo)得效果圖[6]。這三家公司是目前國外浮雕衍射波導(dǎo)方面的代表性公司。
浮雕光柵波導(dǎo)使用光刻工藝加工晶圓作為母版,并使用納米壓印工藝進行大規(guī)模的復(fù)制量產(chǎn)詳見后文所述。
(a)
(b)
圖7:
(a)傾斜光柵結(jié)構(gòu)圖;
(b)二維圓柱光柵結(jié)構(gòu)圖。
(a)
(b)
(c)
圖8:
(a)一維光柵波導(dǎo)原理圖;
(b)二維光柵波導(dǎo)原理圖;
(c)二維光柵K域圖。
(a)
(b)
(c)
圖9:
(a)瓏璟光電第一代光柵波導(dǎo)樣品圖;
(b)瓏璟光電一維衍射波導(dǎo)場追跡圖;
(c)瓏璟光電二維衍射波導(dǎo)場追跡圖。
(a)
(b)
(c)
圖10:
(a)微軟Hololens2效果圖;
(b)Waveoptics衍射波導(dǎo)效果圖;
(c)Dispelix衍射波導(dǎo)效果圖。
[4]. https://www.microsoft.com/zh-cn/hololens/hardware
[5]. https://enhancedworld.com/
[6]. https://www.dispelix.com/
4、體全息波導(dǎo)方案
體全息光柵波導(dǎo)方案采用體全息光柵作為波導(dǎo)的耦入和耦出器件,體全息光柵是一種具有周期結(jié)構(gòu)的光學(xué)元件,它一般通過雙光束全息曝光的方式,直接在微米級厚度感光聚合物薄膜內(nèi)干涉引起了其折射率周期性變化,從而形成納米級的光柵結(jié)構(gòu),可以對入射光發(fā)生衍射作用。將體全息光柵和波導(dǎo)片結(jié)合,通過設(shè)計體全息光柵的相關(guān)參數(shù)(如材料折射率n、折射率調(diào)制因子和厚度等)可以調(diào)整體全息光柵的衍射效率。目前采用體全息光柵波導(dǎo)方案的代表性廠家有Sony和Digilens,Sony只出過一款單綠色的體全息光柵波導(dǎo),產(chǎn)品如圖11(a)所示[7],現(xiàn)已停產(chǎn)。Digilens目前有雙層全彩體全息光柵波導(dǎo),產(chǎn)品如圖11(b)所示[8]。圖11(c)是我瓏璟光電體全息光柵波導(dǎo)的光路仿真驗真圖,圖11(d)是瓏璟光電研發(fā)的單層全彩全息光柵波導(dǎo)樣品,視場角20°,圖12是相應(yīng)的顯示效果。
(a)
(b)
(c)
(d)
圖11:
(a)Sony全息光柵波導(dǎo)效果圖;
(b)Digilens全息光柵波導(dǎo)產(chǎn)品效果圖;
(c)瓏璟光電全息光柵波導(dǎo)場追跡圖;
(d)瓏璟光電單層全彩全息光柵波導(dǎo)樣品圖。
圖12:瓏璟光電單層全彩全息光柵波導(dǎo)實際效果圖
[7]. https://image.baidu.com
[8]. www.digilens.com
5、離軸全息透鏡方案
全息激光視網(wǎng)膜投影采用MEMS激光掃描投影器件和離軸全息透鏡組合的方式,將入射到全息光學(xué)元件上的光線重新定向入射至人眼實現(xiàn)虛擬圖像的顯示。MEMS激光掃描技術(shù)通過改變振鏡取向使得入射光束朝不同方向出射來實現(xiàn)掃描成像,離軸全息透鏡會將MEMS掃描光源的發(fā)散光轉(zhuǎn)變成匯聚光進入人眼。目前采用全息透鏡方案的代表性廠家是North,圖13(a)是他們的樣品圖[9],視場角只有15°。圖13(b)是瓏璟光電做的離軸全息透鏡光路仿真,圖13(c)是瓏璟光電探究性研發(fā)單色離軸全息透鏡樣品,視場角45°,圖13(d)是相應(yīng)的顯示效果,由于MEMS是臨時購買的普通投影儀,體積較大且視場角不匹配,后續(xù)可通過定制MEMS投影器件顯著提升顯示效果并減小體積。
(a)
(b)
(c)
(d)
圖13:
(a)North全息透鏡產(chǎn)品效果圖;
(b)瓏璟光電離軸全息光路仿真圖;
(c)瓏璟光電單色離軸全息透鏡樣品圖;
(d)瓏璟光電單色離軸全息透鏡實際效果圖。
[9]. www.bynorth.com
6. 衍射光波導(dǎo)的微納制造
6.1 浮雕光柵波導(dǎo)制造
如上所述,表面浮雕光柵從維度上可分為一維和二維光柵,而在結(jié)構(gòu)上可分為直光柵、閃耀光柵和傾斜光柵。由于增強現(xiàn)實光波導(dǎo)用于可見光波段,為了實現(xiàn)較大的衍射效率和視場角,其特征尺寸一般在數(shù)百納米,甚至幾十納米,且其性能對誤差容忍度較小,所以對微納加工制備提出了很大的挑戰(zhàn)。目前的衍射光波導(dǎo)制備基本都是基于半導(dǎo)體制備工藝(如光刻、刻蝕工藝)完成。但是,由于這些方法受其復(fù)雜、昂貴的設(shè)備的限制,生產(chǎn)成本非常高,不適合光學(xué)模組的大批量制備。
圖14所示為表面浮雕光光柵模板制備或小批量制備工藝流程圖,包括其掃描電鏡圖。對于直光柵,其工藝較為成熟,首先在基底上旋涂抗蝕劑層,通過干涉曝光或電子束曝光實現(xiàn)光柵的圖案化,之后利用反應(yīng)離子刻蝕(RIE)或電感耦合等離子體刻蝕(ICP)將圖案轉(zhuǎn)移到基底,并將抗蝕劑層去除,完成直光柵的制備。而由于均勻性問題導(dǎo)致以HoloLens為代表的斜光柵光波導(dǎo)無法直接采用反應(yīng)型刻蝕方案準備,所以制備工藝較為復(fù)雜,需要采用聚焦離子束(focused ion beam etching,F(xiàn)IBE)、離子束刻蝕(ion beam etching,IBE)、反應(yīng)離子束刻蝕(reactive ion beam etching,RIBE)技術(shù)所制備。綜合考慮到效率和均勻性,RIBE是其中較合適的方案。首先,將基底上通過物理或化學(xué)方法鍍一層硬掩模(如Cr)層,之后旋涂一層抗蝕劑層。同樣利用干涉曝光或電子束曝光進行圖案化,之后通過氯干刻蝕工藝將抗蝕劑圖案轉(zhuǎn)移到Cr層。在刻蝕工藝之后,用氧等離子體法剝離剩余的抗蝕劑層。接下來使用基于氟基的RIBE工藝用電離的氬離子束以傾斜的角度入射基底。在反應(yīng)離子束刻蝕之后,通過標準的濕法刻蝕工藝去除Cr掩模,獲得具有出色均勻性的斜光柵。
圖14:表面浮雕光柵模板或小批量制備工藝流程
上述基于半導(dǎo)體工藝的制備成本昂貴,不適合光柵波導(dǎo)量產(chǎn)加工。因此,衍射光波導(dǎo)的復(fù)制工藝隨即被開發(fā)出來以便實現(xiàn)大批量生產(chǎn),而這這種大規(guī)模的制造工藝依賴于高折射率的光學(xué)樹脂,目前Magic Leap和WaveOptics已經(jīng)進行相關(guān)工藝的驗證。復(fù)制工藝包括熱壓法(hot embossing)、紫外線納米壓印光刻法(UV-nano imprint lithography)和微接觸壓印法(micro contact printing,亦被稱為軟光刻)。其中紫外線納米壓印光刻是表面浮雕光柵波導(dǎo)批量生產(chǎn)中的常用方法。
具體工藝流程如圖15所示,該工藝可分為兩個階段:納米壓印工作模具制備階段和批量生產(chǎn)階段。首先,通過上述模板制備工藝將圖案加工到硅晶圓上以用作模板,通過納米壓印技術(shù)在更大的硅晶片上旋涂UV樹脂并在上面印刷更多的模板。然后使用紫外線對印刷的結(jié)構(gòu)進行曝光以固定樹脂。最后通過重復(fù)上述過程批量生產(chǎn)多圖案的壓印模具。在批量生產(chǎn)的過程中,使用多圖案的模具來生產(chǎn)表面浮雕光柵波導(dǎo),然后使用功能性涂層覆蓋波導(dǎo),并用激光切割技術(shù)分離,最后將不同結(jié)構(gòu)的波導(dǎo)堆疊實現(xiàn)光學(xué)模組的制備。
圖15:表面浮雕光柵大批量復(fù)制量產(chǎn)工藝
6.2 體全息波導(dǎo)制造
體全息波導(dǎo)的制備基礎(chǔ)是干涉曝光,通過使用激光激發(fā)的干涉圖案曝光附著在基底上的光敏折射材料,材料特性根據(jù)光的強度分布而變化,最后獲得具有折射率周期性變化特性的材料。制備體全息波導(dǎo)的材料包括鹵化銀、重鉻酸鹽明膠、光敏聚合物、全息高分子分散型液晶以及其他更奇特的材料。對于體全息圖的記錄過程大都相似,但是一般的曝光僅適用于小批量驗證,而對于大批量生產(chǎn),需要開發(fā)更加經(jīng)濟的方案,以Sony和DigiLens為代表的公司開發(fā)了體全息波導(dǎo)的加工工藝流程。
如圖 16 展示了制備體全息波導(dǎo)的卷對卷(roll-to-roll)工藝。首先,使用雙束干涉曝光法在附著在卷膠上的光敏聚合物膜內(nèi)形成體全息波導(dǎo);第二步,通過注射成型法形成高質(zhì)量的環(huán)烯烴聚合物塑料波導(dǎo)。為了獲得合格的圖像,波導(dǎo)的翹曲必須小于5um,并且有效區(qū)域的厚度變化應(yīng)小于1um。然后進行全息光學(xué)元件的轉(zhuǎn)移工藝以將全息波導(dǎo)膜準確地與塑料波導(dǎo)對準粘貼;之后將塑料全息波導(dǎo)進行切割;最后在配色過程中,將紅、藍塑料波導(dǎo)與綠色塑料波導(dǎo)對準并用UV樹脂將其封裝固定。塑料基底在每次加工之前和之后都均應(yīng)保持平坦是沖壓和配色過程中都面臨的挑戰(zhàn)。圖 16 展示了帶有綠色、紅色、藍色以及全色塑料VHG波導(dǎo)的照片。
圖16:卷對卷體全息波導(dǎo)制備工藝
7、展望
AR技術(shù)中的波導(dǎo)方案逐漸成為主流技術(shù),所以本文對幾何波導(dǎo)方案(包括鋸齒波導(dǎo)方案和鍍膜陣列波導(dǎo)方案)、浮雕光柵波導(dǎo)方案、全息光柵波導(dǎo)方案做了詳細介紹,同時也介紹了全息透鏡方案,并展示了瓏璟光電的部分相關(guān)樣品。棱鏡方案、Birdbath方案和自由曲面方案由于體積因素的限制本文未做詳細介紹。
偏振陣列波導(dǎo)方案具有輕薄、大眼動范圍和色彩均勻性好的優(yōu)點,在設(shè)計和加工均有很高的技術(shù)壁壘,瓏璟光電在此領(lǐng)域深耕多年,完全實現(xiàn)了從設(shè)計到加工的自主化,率先在國內(nèi)實現(xiàn)了鍍膜陣列波導(dǎo)的大規(guī)模量產(chǎn)。瓏璟光電位于深汕投控時尚品牌產(chǎn)業(yè)園的16454平米的生產(chǎn)基底將于今年八月正式投產(chǎn),也代表了偏振陣列波導(dǎo)技術(shù)新的發(fā)展里程碑。成熟的設(shè)計方案和大規(guī)模的量產(chǎn)能力使得偏振陣列波導(dǎo)方案在未來五年內(nèi)都將是AR領(lǐng)域的主流方案。
鋸齒波導(dǎo)方案相對于偏振陣列波導(dǎo)方案,加工工藝路線相同,工藝難度一致,但是鋸齒波導(dǎo)的雜光嚴重,能量利用率低,對比度低,成像解析度一般,所以使得鋸齒波導(dǎo)方案在AR領(lǐng)域難以成為主流方案。
浮雕光柵波導(dǎo)方案具有大視場和大眼動范圍的優(yōu)勢,同時由于納米壓印的便利性,受到了越來越多的關(guān)注。但是浮雕光柵波導(dǎo)目前的主要問題有,1、色彩不均勻和彩虹效應(yīng);2、反射和透射級次特性所導(dǎo)致的波導(dǎo)片正反兩側(cè)均有圖像信息耦出;3、納米壓印的良率問題。所以短時間內(nèi)浮雕光柵波導(dǎo)方案很難成為主流方案,設(shè)計方案的進一步成熟和量產(chǎn)良率的提升預(yù)計還需要一定的時間。瓏璟光電與湖南大學(xué)積極開展浮雕光柵波導(dǎo)的產(chǎn)學(xué)研合作,合作創(chuàng)建了瓏璟光電-湖南大學(xué)深圳研究院微納光學(xué)研究中心,積極部署微納加工設(shè)備,在設(shè)計與加工方面推動浮雕光柵波導(dǎo)方案的發(fā)展。
體全息光柵波導(dǎo)方案具有色彩均勻性好和易于實現(xiàn)單片彩色波導(dǎo)的優(yōu)勢,但是其采用全息干涉曝光的方法進行波導(dǎo)片的加工,限制了其大規(guī)模的量產(chǎn)。同時,做大FOV需要疊加多層全息光柵,增加了工藝難度,做彩色波導(dǎo)片需要高密度的曝光材料,進一步增加了工藝難度。所以,體全息光柵波導(dǎo)方案在AR領(lǐng)域也很難短時間內(nèi)成為主流方案。
全息透鏡方案使用和全息光柵波導(dǎo)方案相同的全息光柵曝光工藝進行加工,具有大FOV的優(yōu)勢,但是受限于眼動范圍太小的影響,只在個別領(lǐng)域有所應(yīng)用。
綜上所述,偏振陣列波導(dǎo)方案和浮雕光柵波導(dǎo)方案是目前兩個最有前景的主流AR方案,一個代表著現(xiàn)在,一個代表著未來。瓏璟光電率先在國內(nèi)實現(xiàn)偏振陣列波導(dǎo)的大規(guī)模量產(chǎn),同時積極部署浮雕光柵波導(dǎo)方案,希望為AR事業(yè)得發(fā)展盡力發(fā)光。
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